CVD 장치 구분

CVD 장치는 작동 압력, 사용되는 에너지, 챔버의 형태 등에 따라서 제조 장비를 구분해 볼 수 있다.

1. 압력에 따라서는 보통 LPCVD, APCVD로 구분된다.

즉 진공상태에서 제조하는 장비인가 아닌가에 따라서 구분을 할 수 있다. 터보 펌프 등을 이용한 고진공 장비도 활용되나, 보통은 저진공상태에서 공정이 이루어지는 것이 일반적이다.

 

2. 반응 에너지에 따라서는 다음과 같이 구분해 볼 수 있다.

써멀에너지를 이용한 CVD, LPCVD나 APCVD를 보통 이것으로 구분한다.

챔버의 벽면을 함께 히팅하는가에 따라서 Hot Wall방식과 Cold Wall 방식으로 구분하기도 하지만, 보통은 공정 옵션에 따른 구분으로 보는 것이 좋다.

다음으로는 플라즈마를 이용한 PECVD, 포톤에너지를 이용한 PCVD, 레이저를 이용한 Laser CVD 가 있다.

 

3. 장치의 방식에 따라서 수직형과 수평형의 챔버를 생각해 볼 수 있으며,펌핑 흐름으로도 구분 할 수 있다.

 

4. 반응 형태에 따른 구분을 해보면,

1) 열분해

2) 환원반응

3) 산화반응

4) 질화반응

5) 탄화반응

6) 불균형 반응

7) 복합 반응

등으로 구분해서 볼 수 있다. 이러한 반응 형태는 사용되는 가스와 소스를 고려해서 보아야 한다.