sputter(20)
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스퍼터건(Sputter Gun) 자석 배치에 따른 특성 변화
1. 개요1) Magnetron Sputtering(마그네트론 스퍼터링)은 반도체, 디스플레이, 태양전지, 센서 등 다양한 산업에서 널리 사용되는 박막 증착 기술입니다. 이 방법은 진공 환경에서 플라즈마를 생성하고, 이온화된 기체(주로 아르곤, Ar)를 타겟(증착할 소재)과 충돌시켜 증착 시키고자 하는 원자들을 방출시키는 방식으로 작동합니다.2) Magnetron Sputtering의 가장 큰 특징은 자기장(Magnetic Field)을 활용하여 전자의 체류 시간을 늘리고 플라즈마 밀도를 높이는 것입니다. 이를 통해 증착 속도를 향상시키고, 균일한 고품질의 박막을 형성할 수 있습니다. 일반적인 열 증착 방식과 비교하여 높은 에너지를 이용하기 때문에, 보다 밀도가 높은 박막 형성이 가능..
2025.02.14 -
텅스텐(W) 박막 필름을 만들려면
텅스텐은 밀도가 높은 원소 중 하나입니다. 밀도는 19.3g/cc, 녹는점은 3,410°C, 증기압은 2,757°C에서 10 -4 Torr입니다. 외관상 광택이 있고 회백색입니다. 모든 금속 중에서 녹는점이 가장 높은 것으로 알려져 있으며, 특유의 경도로 인해 순수한 형태로 기계를 가공하거나 단조하는 것이 매우 어렵습니다. 텅스텐은 일반적으로 전기 필라멘트를 만드는 데 사용됩니다. 텅스텐 카바이드는 드릴, 톱, 보석류에서 발견됩니다. 텅스텐은 반도체, 연료전지, 센서 생산을 위해 진공 상태에서 증발됩니다. 텅스텐 박막은 써멀로는 증착이 불가능 하며, 일반적으로 이빔이나 스퍼터 방식을 사용합니다. 이빔도 일반적인 방법으로는 증착이 어려울 수 있습니다. 라이너를 사용하지 않고 사용하는 것이 좋지만, 덩어리로..
2023.12.27 -
HIPMS Sputtering
https://www.semicore.com/news/93-what-is-hipims What is HIPIMS? High Power Impulse Magnetron Sputtering A sputtering technique utilizing a very high voltage, short duration burst of energy to generate a plasma with a high density of coating material. www.semicore.com
2023.04.18 -
스퍼터링 타겟 중독 설명?
마그네트론 스퍼터링에서 타겟 중독이란 무엇입니까? 일반적인 영향 요인은 무엇입니까? 첫째, 표적 표면 금속 화합물의 형성. 반응성 스퍼터링을 통해 금속 타겟으로부터 형성된 화합물은 어디에 있습니까? 반응 가스 입자가 타겟 원자와 충돌하여 화합물 원자를 형성하는 화학 반응을 일으키면 보통 발열 반응이며 반응 생성 열에는 전도성이 있어야합니다. 그렇지 않으면 화학 반응이 계속되지 않습니다. 진공 상태에서는 가스 간의 열전도가 불가능하므로 화학 반응은 고체 표면에서 이루어져야합니다. 반응성 스퍼터링 제품은 타겟 표면, 기판 표면 및 다른 구조 표면상에서 수행된다. 기판 표면에 화합물을 생성하는 것이 우리의 목표입니다. 다른 구조 표면에 화합물을 생성하는 것은 자원 낭비입니다. 표적 표면에 화합물을 생성하는 것..
2023.04.18 -
알루미늄 구리 등 스퍼터링 하면서 변색 되는 경우
알루미늄이나 구리 같은 것을 스퍼터링 하다보면 뿌옇게 나오거나 변색되는 경우가 있다. 이런 경우에는 스퍼터링 되면서 발생하는 온도 요소와 산소와의 반응으로 인해 변색되거나 뿌옇게 나온다. 온도요소를 줄여야 하는데, 순간 엄청나게 빠른 속도로 증착하거나, 공정 파워를 낮추어서 여러 건으로 증착을 하거나, 히터 사용을 하지 않는 것이 좋다.
2023.04.17 -
스퍼터링 박막의 구조 참고
참고자료1 http://kjmm.org/journal/Figure.php?xn=kjmm-2020-58-3-207.xml&id= 1. 서 론 KJMM Korean Journal of Metals and Materials Korean J. Met. Mater. 1738-8228 2288-8241 The Korean Institute of Metals and Materials 10.3365/KJMM.2020.58.3.207 kjmm-2020-58-3-207 Research Paper 나노인덴테이션 방법으로 크롬 박막의 고유경도 kjmm.org KJMM Korean Journal of Metals and Materials Korean J. Met. Mater. 1738-8228 2288-8241 The Kore..
2023.02.17