스퍼터와 같은 증착 시스템에서 바이어스 파워를 섭스트레이트에 걸어주는 경우가 있다. 바이어스 파워를 이용하여 Ar 양이온을 기판에 충돌시키는 것인데, 표면에 존재하는 불순물 등을 제거하기 위함이다. 산소를 첨가하여 유기물 제거 효과를 기대하기 한다. 증착을 하면서 바이어스를 걸어주는 경우에는 음이온과 전자들이 섭스트레이에 충돌하는 것을 막아주는 효과를 기대해 볼 수 있다. 특히 챔버내에 존재하는 산소 음이온이 섭스트이트에서 밀려 나가므로 박막내에 들어가는 산소의 양을 감소시키는 효과가 있다. 그러므로, 산화되기 쉬운 원소의 스퍼터링에서 효과를 기대해 볼 수 있다. 이때 사용하는 RF 파워의 DC 바이어스 전압은 -100V~-200V 정도로 해주어, 타켓에 걸리는 전압보다 낮은 전압을 일정하게 유지 시켜 ..

섭스트레이트에 바이어스 파워를 인가 했을 때 얻을 수 있는 효과 참고 자료 입니다. 참고사이트 https://www.atomiclimits.com/2018/04/28/plasma-ald-and-substrate-biasing-the-impact-of-energetic-ions-on-film-properties/ Plasma ALD and substrate biasing – The impact of energetic ions on film properties “Plasma ions create electronic defects in sensitive substrates as well as generate a large electronic trap density in deposited films, espec..