LiNbO₃(리튬 나이오베이트, Lithium Niobate)는 강유전체(Ferroelectric) 및 압전(Piezoelectric) 성질을 갖는 소재로, 주로 광학 및 전자기 응용에서 사용됩니다. 이 물질은 넓은 광학적 투과 범위(0.35~5 μm), 높은 비선형 광학 계수, 그리고 우수한 전기광학 효과를 가지므로 다양한 첨단 기술에 적용됩니다. 파워는 인치스퀘어당 20W 정도가 최대 파워이다.타겟 본딩을 해야 하고, 파워 램프 업 및 다운이 반드시 필요하다.낮은 온도에서 높은 증기압을 가지고 있어, 챔버와 후속 필름에 영향을 주기때문에, 단독 챔버 사용이 유리하다.다른 타겟과 혼용하는 경우에는 신중하게 접근해야 한다.전체적인 시스템 오염으로 복구가 어려울 수도 있다.보통 2인치 타겟의 경우 0.12..

1.    개요1)     Magnetron Sputtering(마그네트론 스퍼터링)은 반도체, 디스플레이, 태양전지, 센서 등 다양한 산업에서 널리 사용되는 박막 증착 기술입니다. 이 방법은 진공 환경에서 플라즈마를 생성하고, 이온화된 기체(주로 아르곤, Ar)를 타겟(증착할 소재)과 충돌시켜 증착 시키고자 하는 원자들을 방출시키는 방식으로 작동합니다.2)     Magnetron Sputtering의 가장 큰 특징은 자기장(Magnetic Field)을 활용하여 전자의 체류 시간을 늘리고 플라즈마 밀도를 높이는 것입니다. 이를 통해 증착 속도를 향상시키고, 균일한 고품질의 박막을 형성할 수 있습니다. 일반적인 열 증착 방식과 비교하여 높은 에너지를 이용하기 때문에, 보다 밀도가 높은 박막 형성이 가능..

https://www.semicore.com/news/93-what-is-hipims What is HIPIMS? High Power Impulse Magnetron Sputtering A sputtering technique utilizing a very high voltage, short duration burst of energy to generate a plasma with a high density of coating material. www.semicore.com

마그네트론 스퍼터링에서 타겟 중독이란 무엇입니까? 일반적인 영향 요인은 무엇입니까? 첫째, 표적 표면 금속 화합물의 형성. 반응성 스퍼터링을 통해 금속 타겟으로부터 형성된 화합물은 어디에 있습니까? 반응 가스 입자가 타겟 원자와 충돌하여 화합물 원자를 형성하는 화학 반응을 일으키면 보통 발열 반응이며 반응 생성 열에는 전도성이 있어야합니다. 그렇지 않으면 화학 반응이 계속되지 않습니다. 진공 상태에서는 가스 간의 열전도가 불가능하므로 화학 반응은 고체 표면에서 이루어져야합니다. 반응성 스퍼터링 제품은 타겟 표면, 기판 표면 및 다른 구조 표면상에서 수행된다. 기판 표면에 화합물을 생성하는 것이 우리의 목표입니다. 다른 구조 표면에 화합물을 생성하는 것은 자원 낭비입니다. 표적 표면에 화합물을 생성하는 것..

스퍼터 타겟은 금속, 유전체, 투명전도체 및 AR 코팅등 다양한 분야의 박막제조에 활용되고 있다. 스퍼터 박막 활용에 존재하는 수많은 문제중에 하나가 타겟 표면에서 발생하는 결절, 분진 가루등이 생성되는 것이다. 간단하게 미립자 오염물 형성에의한 문제라고 볼 수 있다. 이러한 문제는 박막의 질에 결정적인 문제를 발생시키므로, 매우 중요한 이슈가 된다. 우선 샘플 측면에서 보면, 타겟이 위에 위치한 경우 샘플에 떨어지면서 제품 자체의 결함을 유발 하게 된다. 그런면에서 타겟은 아래에 위치하는 것이 좋다. 다만, 이런 경우 샘플의 이송 및 탈장착이 복잡해질 가능성이 많다. 그만큼, 생산 설비의 비용이 증가한다는 의미이다. 공정 면에서 보면, 오염 미립자의 형성 원인은 다음과 같이 생각해 볼 수 있다. 1. ..

일반적으로 알려진 물질별 증착속도 참고 https://www.lesker.com/newweb/ped/rateuniformity.cfm Kurt J. Lesker Company Vacuum Science Is Our Business www.lesker.com 증착 속도를 높이기 위한 방법 1. 전력 증가: 각 재료는 재료 속성에 따라 최대 전력이 제한되지만 냉각 효율을 통해 가능한 가장 높은 전력 밀도에서 대상을 작동할 수 있습니다. 가장 먼저 해야 할 일은 볼트-온 스타일 또는 본드 타겟 구성을 활용하여 타겟 재료를 직접 냉각하는 것입니다. 이것은 전도성 페이스트 또는 에폭시의 도움에 더하여 열전도율을 최대화하고 목표 재료가 달성할 수 있는 최대 수준까지 전력 밀도를 증가시킬 수 있습니다. 2. 소스-기..