알루미늄이나 구리 같은 것을 스퍼터링 하다보면 뿌옇게 나오거나 변색되는 경우가 있다. 이런 경우에는 스퍼터링 되면서 발생하는 온도 요소와 산소와의 반응으로 인해 변색되거나 뿌옇게 나온다. 온도요소를 줄여야 하는데, 순간 엄청나게 빠른 속도로 증착하거나, 공정 파워를 낮추어서 여러 건으로 증착을 하거나, 히터 사용을 하지 않는 것이 좋다.

스퍼터 시스템에서 ITO 박막 스퍼터링을 하는 중간에 아크가 발생하고, 플라즈마 유지가 안되는 경우가 있다. 아크는 주로 타겟 중앙 부분에 원형으로 회전하면서 발생하는 경우가 많이 관찰 된다. 일반 세라믹 스퍼터링에서는 처음 방전이 되고 나면, 공정 조건 변화가 없이 이런 현상이 발생하지 않는 것이 일반적이다. 그러나, ITO 박막 증착에서는 공정 환경에 변화가 없음에도 타겟 자체의 특성으로 이러한 문제가 발생 할 수 있다. ITO 박막은 보통 In2O3 90, SnO2 10 W% 정도의 함유량을 가지고 있다. 적절한 ITO 박막을 얻기 위해서는 플라즈마 방전에 사용되는 아르곤 가스와 타겟의 특성을 유지하기 위한 적절한 산소분압을 유지해 주어야 한다. 플라즈마 내의 산소 분압은 자유행정거리(mean fr..

참고 사이트 주소 http://www.vacuumcoating.info/nodule-formation-on-magnetron-sputtering-targets Nodule Formation on Magnetron Sputtering Targets – Vacuum Coating .info – VCi Magnetron Sputtering is a technology of high importance due to a wide variety of applications in industries such as thin film photovoltaics, semiconductor, optics, decorative coating and wear and corrosion protection. It has been o..