참고 사이트 https://blog.naver.com/rock0627/222485995126 2장 Vacuum and Plasma_2. Plasma 기초 2장의 첫 번째 포스팅에서 간단하게 진공에 대해 알아보았습니다. 사실 저는 현재 반도체 재료 분석 엔지니... blog.naver.com 스퍼터 건이나 DC 바이어스 등으로 방전을 하게 되면, 방전 소스 표면에 빛이 나지 않는 어두운 영역을 볼 수 있다. 이부분을 시스영역이라고 하는데, 스퍼터링이나 이온 에칭, PECVD 같은 공정에서는 상당히 중요한 부분이 된다. 이 부분은 플라즈마의 중성상태가 깨지면서 전위차가 존재하는 영역이고, 실제 이부분이 양이온이 가속되는 부분이라고 할 수 있다. 플라즈마가 형성되면서 전자는 양이온 보다 빠르게 이동하게 되고,..

진공 증착 장비, 에칭 장비 등등에서 박막 제조를 위해 사용하는 플라즈마. 그리고, 플라즈마를 발생시키기 위해 사용하는 많은 파워 중에서 가장 보편화 되어 있는 13.56MHz의 RF파워. 우리는 반도체, 디스플레이 등등의 꽤 많은 분야에서 RF 파워 플라즈마 장치를 응용하고 있습니다. 일반 DC 플라즈마 장치보다는 RF 파워 플라즈마 장치가 구성이 다소 복잡하고, 매칭네트워크 등이 필요해서 다소 복잡한 면도 있습니다. 그러나, 절연체에서도 사용이 가능하고, 박막의 표면 특성이 개선되는 것이 많아서 RF를 사용하는 경우가 많이 있습니다. 이런 RF 방전 플라즈마 장치는 여러 가지 고려 할 점이 많이 있지만, 오늘은 RF 케이블에서 발생하는 발열 문제에 대해서 적어 보려고 합니다. RF 플라즈마 방전 장치..

스퍼터 시스템으로 Pt증착을 많이 합니다. 그런데, 가끔 백금 증착하면 박막이 검게 나온다는 경우가 있습니다. 이런 경우는 거의 대부분이 리크가 있는 경우입니다. 단순히 챔버의 리크만 확인하는 것이 아니라, 가스라인의 리크 확인도 해주어야 합니다. 리크가 없는 경우에도 박막이 검게 나오는 경우가 있을 수는 있습니다. 이런 경우는 챔버의 크리닝이 필요한 경우입니다. 이외에도 박막이 검게 나오는 문제가 발생하는 경우는 공정 압력을 너무 높게 하거나, 또는 플라즈마 손상을 입고 있는 경우 일 수도 있습니다. 공정압력은 10mTorr 이하로 유지하면서, 타겟과의 거리를 조금 늘려주는 것이 좋습니다.