고진공 범위까지 사용하는 CVD 장비에 적절한 게이지를 사용하지 않으면, 계속 불량나고 망가지는 일이 발생합니다. 적합한 게이지를 선택하는 것은 매우 중요합니다. 1, 컨트롤러 MX200 Vacuum Controller 2. 저진공 게이지 4A Convection Gauge 3. 고진공 게이지 7FC Double Inverted Magnetron Cleanable Cold Cathode Sensor CVD 장비나 에칭 장비는 증착하면서 발생하는 파우더에 영향을 받기도 하고, 가스와 반응하기도 한다. 그리고, 챔버 크리닝 가스에도 오염되거나 문제가 발생할 가능성이 높다. 내구성이 있고, 오염에 강하면서 크리닝이 손쉬운 게이지를 선택하는 것이 중요하다.

평판형 플라즈마 CVD로 생성 가능한 박막과 생성물의 예시

제조 설비의 시그널 타워는 설비가 어떠한 상태에 있는지 시각적으로 인식할 수 있게 해주는 중요한 역할을 한다. 시그널 타워를 통해 구분되어 있는 설비의 상태는 크게 다음과 같다. 1. 설비에 이상이 있는지 유무 2. 설비가 작동 되고 있는지 유무 3. 설비가 작동 하고 있으나, 작업을 하고 있는지 유무 4. 설비가 작동하고 있으나, 작업이 완료 되었는지 유무 이 밖에도 램프의 동작 상태에 따라 많은 것을 표시 할 수 있다. 제조 설비의 시그널타워 구성은 3단 램프 또는 4단 램프등 다단으로 구성되며, 각각의 램프 구성에 따라서 시각적으로 설비의 상태를 표시하게 된다. 가스 공급 장치의 설비 예를 들어보면, 적색의 경우, 비상상황, 가연성 가스의 농도가 화재 수준으로 감지 되거나, 유출 등이 감지 되는 경..

기체는 가스(Gas)와 증기(Vapor)로 나누어 생각 할 수 있다. 그 차이점은 가스는 상온 상압하에서 일정한 공간을 점유한 무정형 유체를 의미하면, 25도, 1기압 상태에서 기체상태로 존재한다. 반면, 증기(Vapor)는 25도 기준 상온 상압에서 액체 또는 고체로 존재하는 물질이 압력 강하(진공) 온도상승(Thermal, E-Beam, Heat)으로 인해 기체 상태로 존재하는 유체로서 보통 기체와 액적이 섞여 있는 상태로 있게 된다. 보통의 물리적인 증착 시스템은 이러한 액적상태의 물질이 씨드를 형성하는 것을 이용한다. 그런면에서, True Gas라 함은, Critical Point 압력에 관계없이 물질의 액체상태가 더 이상 존재하지 않게 되는 온도, 즉 임계점 이상의 온도로 존재하는 가스를 의미한..

예상되거나 혹은 예상하지 못한 문제로 기계에 이상이 발생하는 경우, 폭주 상태를 방지하여 기계의 심각한 파손 또는 충격, 사람에 대한 안전을 확보하는 것은 매우 중요한 일이며, 그것이 진정한 기술이다. 예상하지 못한 원인으로 발생하는 것은 방지하기 어려우나, 가능한 모든 상황과 가능성 들을 고려하여 준비한다면 분명 발전된 시스템, 기계를 만들 수 있는 것이다.

박막을 제조하기 위한 많은 방법 중에서 비교적 간단하고, 쉬운 방법이 기상증착 방식입니다. 기상증착을 이용하기 위해서는 불순물을 제거하기 위해 진공시스템이 필요합니다. 진공시스템을 이용한 기상증착 장비는 보통 써멀과 이빔을 이야기 할 수 있습니다. 이 두가지 진공증착 시스템은 기본적으로 물질에 에너지와 힘을 가하여 물질을 녹이고, 가스 형태가 되어 증발되는 것을 이용하여 박막을 제조하는 것입니다. 장비의 구분은 가열 방식으로 구별 할 수 있는데, 써멀은 보트라는 히터를 가열하는 방식이고, 이빔은 전자총이라는 것을 이용하여 전자 충격을 가해 가열하는 방식입니다. 이 장비를 이용하여 혼합물과 화합물을 증착 하는 경우 고려해야 하는 몇가지를 적어 볼까 합니다. 1. 증착 속도를 높이기 위해서는 물질의 온도를 ..