참고자료1 http://kjmm.org/journal/Figure.php?xn=kjmm-2020-58-3-207.xml&id= 1. 서 론 KJMM Korean Journal of Metals and Materials Korean J. Met. Mater. 1738-8228 2288-8241 The Korean Institute of Metals and Materials 10.3365/KJMM.2020.58.3.207 kjmm-2020-58-3-207 Research Paper 나노인덴테이션 방법으로 크롬 박막의 고유경도 kjmm.org KJMM Korean Journal of Metals and Materials Korean J. Met. Mater. 1738-8228 2288-8241 The Kore..

참고 사이트 https://blog.naver.com/rock0627/222485995126 2장 Vacuum and Plasma_2. Plasma 기초 2장의 첫 번째 포스팅에서 간단하게 진공에 대해 알아보았습니다. 사실 저는 현재 반도체 재료 분석 엔지니... blog.naver.com 스퍼터 건이나 DC 바이어스 등으로 방전을 하게 되면, 방전 소스 표면에 빛이 나지 않는 어두운 영역을 볼 수 있다. 이부분을 시스영역이라고 하는데, 스퍼터링이나 이온 에칭, PECVD 같은 공정에서는 상당히 중요한 부분이 된다. 이 부분은 플라즈마의 중성상태가 깨지면서 전위차가 존재하는 영역이고, 실제 이부분이 양이온이 가속되는 부분이라고 할 수 있다. 플라즈마가 형성되면서 전자는 양이온 보다 빠르게 이동하게 되고,..

스퍼터와 같은 증착 시스템에서 바이어스 파워를 섭스트레이트에 걸어주는 경우가 있다. 바이어스 파워를 이용하여 Ar 양이온을 기판에 충돌시키는 것인데, 표면에 존재하는 불순물 등을 제거하기 위함이다. 산소를 첨가하여 유기물 제거 효과를 기대하기 한다. 증착을 하면서 바이어스를 걸어주는 경우에는 음이온과 전자들이 섭스트레이에 충돌하는 것을 막아주는 효과를 기대해 볼 수 있다. 특히 챔버내에 존재하는 산소 음이온이 섭스트이트에서 밀려 나가므로 박막내에 들어가는 산소의 양을 감소시키는 효과가 있다. 그러므로, 산화되기 쉬운 원소의 스퍼터링에서 효과를 기대해 볼 수 있다. 이때 사용하는 RF 파워의 DC 바이어스 전압은 -100V~-200V 정도로 해주어, 타켓에 걸리는 전압보다 낮은 전압을 일정하게 유지 시켜 ..

게인값과 리드값 변화에 따른 설정값과 실제값 변화 그래프 예상 스로틀 밸브를 이용한 압력 변화는 챔버 내부의 분압과 흐름이 중요하기 때문에 a 보다는 c 에 근접하도록 제어하는 것이 좋다.

반송로봇 매뉴얼 참고 매뉴얼 반송 로봇.

열배기는 알루미늄 통으로 하고, 산배기는 플라스틱 통으로 한다. ISO 타입 6인치로 구성...